用于半导体零件清洗的低温干冰雪清洗装置-行业动态

发展理由：1环境改善目标，通过减少有害药物的使用来确保工人的安全，并通过减少危险废物的产生来改善自然环境2经济目标，简化生产过程，最大限度地减少工作场所的清洁费用。工作场所：它具有降低所有生产成本和附带成本的效果。 3技术目标可以取代现有清洁工艺的环保技术：通过引入化学品，可以减少工人的环境和清洁时间，并致力于技术开发。重要性：随着电子工业的发展，致密化变得更加重要，制造过程中发生的清洁过程变得更加重要。为了通过使用有毒草药和超纯水保持所需的清洁和清洁，必须进一步扩大洗涤过程。药物不仅对人体有害，而且对自然环境也有不良影响。使用干冰进行干洗在成本和效率方面是优越的。即使在韩国以外，仍然使用干冰。但是，使用的清洁设备仍处于开发的早期阶段，并未激活。发展是一个紧迫的情况。内容和范围：通过分析先进设备确保基本技术 - 二氧化碳注入装置 - 工作阶段 - 开发二氧化碳高压2型清洗装置 - 提高二氧化碳纯度 - 开发清洗晶圆喷嘴 - 旋转模块（晶圆）：开发清洗装置设计驱动器-CO2注射清洁设备模块：晶圆（移动部件） - 晶圆（装载/卸载）系统 - 腔室（杯）清洁3）玻璃有机清洁设备的开发（LCD，EL，彩色滤光片） - 设计扫描模块（传送带）型） - 控制元件 - 软件的最终生活质量得到提高，而且根据清洁制造，相应的变化被称为无污染清洗没有选择，而且还装载在一个成长的环境中，这种方式的含义真的很棒，我们还将有一种新的物理清洁清洁方法。有一系列基本的清洁物品可用于清洁过滤器，并可应用于所有也有快速泌尿道问题的部位。它不使用化学清洁剂，因此具有经济竞争力。问题是如何有效地将流程应用到站点并快速从故障中恢复。用实际过程替换现有过程是非常危险的。然而，主要原因是逐步的环境清洁。这是不可避免的，除了技术等环境原因，因此未来的经济挑战是光明的，当然也不是那么普遍。为了解决这个问题，我们可以提供很多意义。您不仅要实施国家项目以便将来实施，还要在实际过程中开发大规模生产设备，并提出更环保的清洁工艺的初步目标。我理解方向。先前的开发将应用于干冰的应用以精确清洁雪晶片。传统化学清洁解决方案的多功能性部分取代了清洁过程。净化设备的定位如下，目标是各种在颗粒清洗领域建立环保，无污染的清洗技术。